武汉离子氮化炉是在真空容器中使含氮稀薄气体在直流电场中电离，正离子轰击金 属零件表面形成氮化层，以达到表面硬化的设备。今天，小编就介绍它的操作流程和工艺规范要求，都来了解一下吧！

渗氮层随时间的延长而增厚，初期增长率大，以后渐趋缓慢，一般渗速在0.01mm/h左右

  

随保温时间延长，氮化物聚集长大，硬度下降。温度越高，时间越长，长大越厉害

合髙压（工作电压电阻器在零部位）通冷却循环水。电阻器挡位为打弧挡位。打弧挡位阻值加很大，根据的电流量小，提温当电阻较小，根据的电流量大。打弧挡位的电流量通常为额定电压的五分之一上下。

迟缓调整电阻器至须部位，至炉内起辉炉内钢件清打弧工作中。不能使炉内打弧强烈。

挥发率为20 一40 ％时氮原子多，零件表面可大量吸收氮

  

挥发率超过60 ％则气氛中的氢含量高达52％以上，将产生脱氮作用，此时不仅氮原子数量减小，而且大量氢分子和氮分子停滞于零件表面附近，使氮原子不易为表面所吸收，从而使零件表面含氮量降低，渗氮层深也减薄。氮化前应对加热炉、氮化罐和整个氮化系统的管道接头处进气密性检查，保证氨气不漏和在管路中的畅无阻。