说到离子氮化炉，我们可能有点奇怪。离子氮化炉是通过离子氮化工艺制成的。让我们详细解释一下离子氮化工艺。

　　离子渗氮的渗氮温度与气体的渗氮温度基本相同，一般在500~540℃之间，不同材料的渗氮硬度与温度相对应，一般在450~540℃之间。当温度高于590℃时，由于氮的积累，硬度会显著降低。

　　升温速率关键取决于工件表层的电流量密度、工件容积与造成光辉的表层总面积的比及工件的繁杂度和散热系数等。降低形变，升温速率不适合太快，一般为150~250℃/h。绝缘温度要平稳，起伏要小。绝缘温度的平稳与炉压和电压有紧密的关联，根据平稳炉压来平稳电流密度，从而提升绝缘温度的平稳；根据平稳电压来平稳电流密度，从而提升绝缘温度的平稳。

　　氮气渗出的绝缘時间取决于渗氮零件的材料和渗氮层的厚度和硬度规定，绝缘時间从几十分钟到几十个钟头。当渗氮時间在20h之内时，离子渗氮显著大于气体渗氮，当渗氮時间在20h之上时，两类氮气渗出的速率接近。由此可见，应对渗氮层小于0.5mm的工件，离子渗氮比较合适。当渗氮层深度为0.2~0.5mm时，一般隔热保温8~20h即可。