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离子渗氮技术有何特点?

信息来源:http://whadd.com/ 作者:离子氮化炉公司 发布时间:2022-07-06 16:49

  武汉离子渗氮是一种化学热处理工艺,在低真空含氮气氛中,以炉体为阳,以待处理工件为阴,在阳和阴之间施加几百伏的DC电压,使工艺产生的辉光放电渗氮。离子渗氮有许多名称,如离子渗氮、辉光放电渗氮、离子轰击渗氮、等离子渗氮等。那么,离子渗氮的技术特点是什么?

  武汉离子渗氮的技术特点是什么?

  1、离子氮化技术的独特特征是离子轰击、溅射清洗和等离子体活化。离子活化是形成高质量渗氮层的根本保证,活化扩散贯穿于离子渗氮的全过程。离子活化分解NH3、N2和H2原子产生活性离子。同时,工件表面的离子活化产生大量微观缺陷和活化表面,这些缺陷和活化表面在活化表面上反应形成氮化物层。因此,控制和调节离子激活条件是很重要的。研究辉光放电的轰击加热、溅射反应和活化效应对离子渗氮工艺的发展和完善具有重要意义。

  2、我们研究了武汉离子渗氮形成化合物层的过程,发现离子渗氮和气体渗氮产生的化合物层的相结构是不同的,因为化合物层形成的机理不同。38CrMoAl钢的离子渗氮化合物层由相组成,主要是相,表面约有25的相,而气体渗氮化合物层由相组成,表面不含相。如果样品预先用氩离子溅射活化4h,然后在5506h下进行离子氮化,表面相从55减少到45,表面相从25增加到42,相从20减少到13。可以看出,离子溅射活化的样品在渗氮过程中增加了表面化合物层中相的数量,减少了相形成。


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