武汉离子渗氮是一种化学热处理工艺，在低真空含氮气氛中，以炉体为阳，以待处理工件为阴，在阳和阴之间施加几百伏的DC电压，使工艺产生的辉光放电渗氮。离子渗氮有许多名称，如离子渗氮、辉光放电渗氮、离子轰击渗氮、等离子渗氮等。那么，离子渗氮的技术特点是什么？

　　武汉离子渗氮的技术特点是什么？

　　1、离子氮化技术的独特特征是离子轰击、溅射清洗和等离子体活化。离子活化是形成高质量渗氮层的根本保证，活化扩散贯穿于离子渗氮的全过程。离子活化分解NH3、N2和H2原子产生活性离子。同时，工件表面的离子活化产生大量微观缺陷和活化表面，这些缺陷和活化表面在活化表面上反应形成氮化物层。因此，控制和调节离子激活条件是很重要的。研究辉光放电的轰击加热、溅射反应和活化效应对离子渗氮工艺的发展和完善具有重要意义。

　　2、我们研究了武汉离子渗氮形成化合物层的过程，发现离子渗氮和气体渗氮产生的化合物层的相结构是不同的，因为化合物层形成的机理不同。38CrMoAl钢的离子渗氮化合物层由相组成，主要是相，表面约有25的相，而气体渗氮化合物层由相组成，表面不含相。如果样品预先用氩离子溅射活化4h，然后在5506h下进行离子氮化，表面相从55减少到45，表面相从25增加到42，相从20减少到13。可以看出，离子溅射活化的样品在渗氮过程中增加了表面化合物层中相的数量，减少了相形成。